半導體芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷卻用水,基板晶圓片檢測清洗用水,中段晶圓片濺鍍、曝光、電鍍、光刻、腐蝕等工藝清洗,后段檢測封裝清洗。
光伏多晶硅超純水太陽能光伏產業主要生產集中在多晶硅提純、拉單晶、多晶硅鑄錠、太陽能電池片等,這些生產工藝中主要動力需求包括:超純水,電源,特氣。
光學光電超純水光電光學玻璃行業的超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水。
液晶面板超純水液晶面板生產大約50%以上工序中硅片與超純水直接接觸,有80%以上工序需要進行化學處理,而化學處理又與超純水有密切關系,并且直接與工件接觸,如果水質不純,就會導致器件性能下降,影響產品性能,進而影響了產品的良率。
鋰電新能源超純水作為電解液的重要成分,水在電池中起著至關重要的作用,一般情況下的水中含有鈣鎂離子,固體顆粒、膠狀物質等導電物質,會縮短蓄電池的使用壽命,也不符合國家有關電池用水的標準規范,所以需要水質高的超純水作為電池電解液。
光伏太陽能、動力電池生產對超純水用量極大,因此系統具有產水量大、出水質量高、系統穩定,水質要求≥17MΩ*cm(25℃)
電子半導體生產用超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制極其嚴格,達到PPb級,產水水質要求在18.2MΩ*cm(25℃)以上。
液晶面板生產大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸,有八分之八十以上工序需要進行化學處理,水質不純將直接影響產品部件性能。
手機面板、光學鏡片、光學玻璃清洗對超純水水質要求極高,帶電力離子和污垢會對鏡片產生不可逆損害,終端水質要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。
磷酸鐵鋰、碳酸鋰、石墨烯等新材料的生產,需要以超純水作為混合溶液,終端水質要求在≥15MΩ*cm(25℃)以上
化工是當今化學工業的新型領域,涉及領域廣泛,化工產品包括了大致11個品類:農藥、染料、涂料、顏料、試劑盒高純物,信息用化學品、食品和飼料添加劑、粘合劑、催化劑和各種助劑、化工系統生產的化學藥品(原料藥)和日用化學品、高分子聚合物中(包括功能膜和偏光材料等),隨著經濟發展,行業的開發和涉及領域也會不斷
新能源產業主要是源于新能源的發現和應用新能源指剛開始開發利用或正在積極研究、
電鍍涂裝行業中,為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力,電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm以下的純水;另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下電鍍純水來清洗。
食品工業純水設備是針對于現行食品工業企業純水需求與食品QS認證、純凈水衛生標準2003標準設計的,此純水設備采用全不銹鋼材質,后置純水殺菌模塊,操作簡便,工藝先進,水質穩定,可用于生產加工過程中添加用水。
工業廢水(industrial wastewater),指工藝生產過程中排出的廢水和廢液,其中含有隨水流失的工業生產用料、中間產物、副產品以及生產過程中產生的污染物,是造成環境污染,特別是水污染的重要原因。
今天是2023年1月30號,農歷正月初九,深圳市純水一號水處理科技有限公司今天開工大吉,回顧2022年是歷經磨難的一年,但經過公司的全體員工不懈努力,新老客戶的不斷支持,純水一號才能發展至今,如今,純水一號已經成立了21年,專注于電子半導體、光伏光電、面板顯示三大板塊。為客戶不斷提供純水設備支持!
純水站是一個企業的重要核心設備,純水站設計前,我們需要盡可能詳盡的了解企業的需求,當地水質的狀況,場地的環境等,以便設計出符合產品需求的純水站。那么,純水站設計前,我們需要得到哪些資料呢?
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